judy-- 周二, 11/20/2018 - 09:38 村田的高密度硅电容器,通过应用半导体的MOS工艺实现三维化,大幅增加电容器表面积,从而提高了基板单位面积的静电容量。 利用先进的三维结构,不仅薄得惊人,只有100μm,而且使有效静电容量面积相当于80个陶瓷层。并且可以根据客户要求生产更薄的产品。采用线性低分散电介质缩小体积,优化了静电容量值和电气特性。